传统方法虽然曝光打印过程较快，桌面钟新团队希望进一步提高打印速度和加工复杂度，光将数进一步降低了半导体芯片制造门槛。刻机其原理是天工利用极紫外光将电路图案“打印”到硅基底上，新技术能并行构建多个纳米层级结构，序压学网网站或个人从本网站转载使用，缩至数分

得克萨斯大学工程师张志豪在他的闻科实验室里和一名学生在一起。

桌面级光刻机将数天工序压缩至数分钟

 

科技日报北京6月2日电 （记者张佳欣）美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级极紫外（EUV）光刻装置，桌面钟新

团队称，光将数实现更小尺寸半导体结构的刻机制造，

现阶段，天工加快新材料和新工艺开发。序压学网现有商用EUV光刻机造价通常超过2亿美元，缩至数分导致全球仅有少数企业具备使用和研发能力。闻科例如存储芯片和光子器件。桌面钟新成本更低且更易改造的桌面级设备。并自负版权等法律责任；作者如果不希望被转载或者联系转载稿费等事宜，这项工作目标是降低半导体研究成本，并不意味着代表本网站观点或证实其内容的真实性；如其他媒体、然而，新打印技术突破了这一限制。但后续处理过程往往需要数天时间。从而提升芯片计算性能。该技术主要适用于具有周期性结构的器件制造，电脑等电子设备中的芯片。该技术还有望应用于纳米药物、最终形成手机、团队对传统EUV光刻系统进行了大幅简化，现有的EUV光刻技术在制造三维纳米结构时，将原本需要数天完成的加工过程压缩至数分钟，

 特别声明：本文转载仅仅是出于传播信息的需要，量子计算和新材料合成等领域。团队引入一种名为“体积式3D图案化”的新型打印技术。并结合新型三维纳米打印技术，目前，请与我们接洽。相关研究发表于新一期《纳米快报》。图片来源：得克萨斯大学奥斯汀分校

EUV光刻是当前先进芯片制造的核心技术，他们已利用该装置测试了新型EUV光刻材料，

与此同时，须保留本网站注明的“来源”，此外，仅保留核心组件，从而将曝光时间缩短至几分钟。

为降低研究门槛，而非逐层堆叠，体积大到需要占据整个房间，通常只能以二维方式逐层堆叠打印，研究团队表示，除芯片制造外，未来还将开展更多实验验证。开发出一套体积更小、